Croissance diamant par MW-PACVD
Le SSDR 150 est un réacteur de dépôt assisté par plasma micro-onde, destiné à la synthèse de films et gemmes de diamant CVD. Grâce à l’utilisation d’un plasma de haute densité de puissance, ce réacteur permet l’élaboration du diamant de très haute pureté, à forte vitesse de croissance. Résultante du travail poussé de R&D sa conception optimisée de point de vue micro-onde et plasma, fait de la SSDR150 un réacteur fiable et robuste, parfaitement adapté aux besoins des laboratoires de R&D et des industries (joaillerie, applications mécaniques, microélectronique).
Caractéristiques du réacteur SSDR150
- Réacteur plasma à haute densité de puissance
- Haute pression de fonctionnement, jusqu’à 400 mbar ou plus
- Générateur micro-onde 6 kW (mode pulsé sur demande)
- Quatre lignes de gaz (des lignes supplémentaires sur demande)
- Porte-substrat 2″ refroidi
- Ajustement automatique de la hauteur du porte substrat au cours de la croissance (en option)
- Chargement/déchargement facile du substrat
- Pyromètre IR bi-chromatique (475 – 1475°C)
- Pompe turbo moléculaire + pompe primaire sèche
- Vide limite inférieur à 5 x 10-7 mbar
- Procédé entièrement automatisé
- Faible entretien
- Vue générale
- Diamant en croissance
- Diamant monocristallin avant découpe et polissage
- Diamant monocristalin de 400 µm après polissage
- Diamant facetté
- Diamant polycrystallin de 330 µm
Performances du réacteur SSDR150
Diamant polycristallin
- Pas d’azote visible dans la PL à la température de LN2
Diamant monocristallin
- Pas de centres d’azote visibles dans PL à temperature LN2
- Faible concentration d’azote [NS0] (mesurée par EPR)
- FWHM de la ligne Raman de diamant à 1332 cm-1 : 1.6 cm-1
- Pas d’absorption infrarouge de 4000 à 10000 cm-1
- Vitesse de croissance jusqu’à 15 µm/h, en fonction des conditions de croissance
- Spectre d’absorption du diamant
- FWHM de la ligne Raman du diamant
Sélection d’articles d’institutions prestigieuses qui font confiance dans nos systèmes MW-PACVD pour la croissance de leur cristaux de diamant CVD :
- Microwave engineering of plasma-assisted CVD reactors for diamond deposition
http://iopscience.iop.org/article/10.1088/0953-8984/21/36/364202/meta
- Growth of large size diamond single crystals by plasma assisted chemical vapour deposition: Recent achievements and remaining challenges
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1631070512001429
- 2D inverse periodic opal structures in single crystal diamond with incorporated silicon-vacancy color centers
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925963516302795
- Thermal conductivity of free-standing CVD diamond films by growing on both nuclear and growth sides
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925963516302746
- Thin large area vertical Schottky barrier diamond diodes with low on-resistance made by ion-beam assisted lift-off technique
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925963516306422